Semiconductors

THEORIS X302H

12英寸立式高温氧化炉

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THEORIS X302H 12英寸立式高温氧化炉
THEORIS X302H 12 Inch Vertical High-TEMP Oxidation Furnace
本产品主要应用于12英寸集成电路（IC）领域 高温（1000℃-1200℃）氧化/退火工艺。该机台为立式单腔炉管系统，工艺处理过程实现了高度自动化。系统主要由传输模块、工艺模块、电源柜等部分组成。
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