离子注入是半导体工业中的主要掺杂方法。它是通过电场加速和磁场筛选以及平行化，将特定元素注入到目标材料中的技术，通过高精度的控制，确保注入剂量的均匀性。因其具有控制精准，各向异性，常温工艺等优点，广泛应用于集成电路, 化合物半导体，面板等领域，成为主流的掺杂工艺。

离子注入设备结构复杂，技术难度高，是半导体制造环节的关键设备之一。北方华创凭借二十多年的半导体研发制造经验与技术创新，不断突破静电场加速、剂量控制、电磁场筛选等多项关键技术，开发出两款中束流设备。公司将继续推进离子注入设备的全覆盖，为半导体制造领域提供全套的离子注入解决方案。