Semiconductors

Pallas A220

碳化硅快速热退火系统

Consultation Contact
Pallas A220 碳化硅快速热退火系统
Pallas A220 SiC Single Wafer Rapid Thermal Anneal System
Pallas A220 主要用于8英寸及以下快速热退火工艺。该机台采用快速热处理的成熟技术,通过灯管加热实现对晶圆在极短的时间内升温到高温,通过多温区控制实现温场均匀,用于离子注入后扩散激活退火等应用。
Equipment Characteristics
Applications
Contact Naura
WeChat Official Account