Semiconductors

NMC 612E

12英寸ICP刻蚀机

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NMC 612E 12英寸ICP刻蚀机
NMC 612E 12 Inch ICP Etcher
NMC612E 是用于12英寸硅片的等离子体干法刻蚀设备，适用于先进节点的逻辑芯片硅刻蚀工艺， 先进节点的3D-NAND硅刻蚀和台阶刻蚀工艺，以及先进节点 DRAM制程中的导体和金属掩膜刻蚀工艺
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