化合物刻蚀机采用超高密度等立体源，刻蚀速率高、均匀性好，性能稳定，MTBC长，易维护，在SiC-Power、GaAs-RF、GaN-RF、滤波器、Optic等领域应用广泛，已在多条产线验证成功，积累了丰富的经验，在集成电路、化合物领域、新兴、科研等领域的应用非常广泛。
