Semiconductors

GSE C200

多功能刻蚀机

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GSE C200 多功能刻蚀机
GSE C200 Multi-functional Etcher
多功能刻蚀机采用采用高密度等离子体源,刻蚀速率高、均匀性好,颗粒控制能力优异,易维护,性能稳定。在SAW滤波、传感器件的制备等方面性能优异,具备快速导产的能力。同时工艺的兼容性高,可刻蚀介质、金属、化合物等多种材料,在科研、高校、新兴领域的应用非常广泛。
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