Home Products & Services Semiconductors 等离子刻蚀设备 12英寸等离子体高选择比刻蚀机

Semiconductors

ACE E300Ge

12英寸等离子体高选择比刻蚀机

Consultation Contact
ACE E300Ge 12英寸等离子体高选择比刻蚀机
ACE E300Ge High Selectivity Etcher
ACE E300Ge拥有高密度低损伤的等离子源装置,以及超高过滤效率的离子过滤装置,为走向3D结构和更高深宽比的先进存储制程提供革命性的表面处理解决方案,以及高选择比、高精度的金属硬掩膜层刻蚀应用。
Equipment Characteristics
Applications
Contact Naura
WeChat Official Account