Scaler HK430主要用于12英寸高介电常数材料薄膜的沉积工艺。设备能够实现优异的工艺稳定性控制，达成更好的薄膜沉积均匀性及优异的颗粒控制表现。在结构系统方面，采用每腔单片式设计，在气流场均匀性、温度控制等方面表现优异，单片工艺结果一致性大幅提高；在软件方面，通过全自动流程及相关数据监控、安全互锁设定等为实现稳定量产提供更好的运行环境。