Semiconductors

Surefill W630

金属钨膜沉积系统

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Surefill W630 金属钨膜沉积系统
Surefill W630 CVD System
Surefill W630产品是一款针对金属钨薄膜的化学气相沉积设备,适用于集成电路、功率半导体等领域,可实现对12英寸晶圆的全自动化工艺处理。该系统采用标准化的传输系统和模块化的工艺腔室设计,配置灵活、工艺窗口宽、功能集成度高,各项工艺技术指标均达到国际先进水平。
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