EPEE系列PECVD可应用于8英寸及以下集成电路、化合物半导体、新兴应用与科研领域，具备多样化的传输系统，可满足量产及研发客户需求，并具备硅、碳化硅、玻璃、蓝宝石、砷化镓、铌酸锂、钽酸锂等不同衬底传输及工艺能力，具备氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃、非晶硅、非晶碳膜层沉积能力，具有优秀的均匀性控制能力、应力调节能力、台阶覆盖性及电学、光学调控能力，广泛应用于氧化硅图形化衬底层、钝化层、绝缘层、掩膜层。